PRODUCT CLASSIFICATION
產(chǎn)品分類產(chǎn)品展示/ Product display
日本toyokokagaku高靈敏度緊湊質(zhì)譜儀分析儀 ASTON Impact“ASTON Impact"是一款適用于氣體分析的過程氣體監(jiān)測的高靈敏度質(zhì)譜儀。這是一款追求性價比和易用性的電子電離離子源型號。它節(jié)省空間并允許您監(jiān)測大氣壓區(qū)域的氣體。
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日本toyokokagaku高靈敏度緊湊質(zhì)譜儀分析儀 ASTON Impact 特點介紹
“ASTON Impact"是一款適用于氣體分析的過程氣體監(jiān)測的高靈敏度質(zhì)譜儀。
這是一款追求性價比和易用性的電子電離離子源型號。
它節(jié)省空間并允許您監(jiān)測大氣壓區(qū)域的氣體。
雖然體積小,但質(zhì)量范圍擴展至m/z285,作為過程氣體監(jiān)測用質(zhì)譜儀,成功實現(xiàn)了超越其他公司的高靈敏度測量。
它采用節(jié)省空間的設計,包括配備電子電離源和二次電子倍增器的小型四極傳感器以及泵。
日本toyokokagaku高靈敏度緊湊質(zhì)譜儀分析儀 ASTON Impact 規(guī)格參數(shù)
替代使用氦 (He) 載體的分析儀,例如氣相色譜儀
FT-IR 分析儀的替代品
用于連續(xù)分析廢氣以回收二氧化碳 (CO 2 )
測量廢氣中氫氣(H 2 )和其他氣體的濃度
半導體設備的氣體測量
CVD 清洗終點
蝕刻端點
薄膜沉積工藝條件測量
用于干泵維護和安全保證的氣體測量
發(fā)酵過程中產(chǎn)生的氣體(乙醇等)的監(jiān)測和測量
NMP監(jiān)測測量
冷凍干燥過程中的殘余水分管理測量
廢氣管理測量
檢測各種氣體泄漏的測量
1.首先
化學氣相沉積(CVD)廣泛應用于半導體制造工藝中。它包括許多形成氧化膜和金屬膜的步驟。
在 CVD 中,固體沉積物在腔室內(nèi)壁上的積累以及由此產(chǎn)生的顆粒對工藝產(chǎn)生重大影響。
因此,根據(jù)成膜頻率需要進行腔室清潔。
通常,腔室清潔是通過考慮終點的經(jīng)過時間來控制的。
2.測試方法
1. 用不銹鋼管將閥門和 ASTON Impact 連接到 CVD 設備。
2. 開始清潔過程并開始測量 ASTON Impact。
3. 監(jiān)測反應產(chǎn)物和清潔氣體的趨勢。
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